بررسی کارایی فرایند فتوکاتالیستی نانوذرات اکسید روی در حذف  آلاینده آنیلین از پساب سنتتیک

microsoftinternetexplorer4 زمینه و هدف: آنیلین ماده ای است که در صنایع شیمیایی و در فرایندهای مختلفی استفاده می گردد و به دلیل اثرات منفی روی محیط، روش های مختلفی جهت حذف این ماده مورد بررسی قرار گرفته است. در این مطالعه، کارایی فرایند فتوکاتالیستی نانوذرات اکسید روی در حذف آنیلین از پساب سنتتیک مورد مطالعه قرار گرفت.روش بررسی: راکتور فتوکاتالیستی از جنس پلکسی گلاس و به حجم 5 لیتر که لامپ فرابنفش (20w.) در مرکز آن (داخل غلاف کوارتزی) بوده و نانوذرات اکسیدروی (g/l 5/0-2/0) وارد پساب سنتتیک حاوی آلاینده آنیلین با غلظت ppm.052 می گردید. پس از طی زمان ماند30و90،60دقیقه، نمونه ها سانتریفوژ شده و محلول رویی توسط فیلتر µ.2/0 از جنس ptfe، فیلتر شد. جهت استخراج مواد آلی از نمونه و آنالیز آنها، از روش مایع ـ مایع و دستگاه گازکروماتوگرافی استفاده گردید. یافته ها: نتایج نشان داد که فرایند فتوکاتالیستی اکسید روی می تواند به طور موثری، منجر به حذف آلاینده آنیلین از پساب گردد. راندمان حذف آنیلین در غلظت نانوذرات اکسیدروی برابر g/l 5/0  به مقدار کمتری نسبت به سایر غلظت ها افزایش نشان می داد و آزمون آماری (anova) نشان از عدم وجود اختلاف معنادار بین راندمان حذف آنیلین در غلظت های مختلف نانوذرات داشت. در ph قلیایی، بیشترین راندمان حذف آنیلین در زمان ماند 90 دقیقه و غلظت نانوذرات g/l 5/0 به میزان 3/76% به دست آمد. نتیجه گیری: در نهایت، می توان نتیجه گیری نمود که فرایند فتوکاتالیستی نانوذرات اکسیدروی برای حذف آلاینده آنیلین از پساب مناسب است.